به گزارش خبرنگار علمي باشگاه خبرنگاران، یکی از روش های زدایش خشک که به طور گسترده ای در تکنولوژی ساخت قطعات نیمه هادی و ابررسانه  به کار می رود روش RIE است.

بنابراین گزارش این روش ترکیبی از زایش فیزیکی و شیميایی است که قابلیت تنظیم دقیق فلوی گاز توسط شیرهای سوزنی، دارای شیرهای باز و بسته نیوماتیک ،دارای فیلترهای مناسب برای روغن و گازهای سمی امکان دسترسی آسان به داخل محفظه ، کاربری آسان دستگاه دارای سیستم خودکار، استفاده از سیلد نیک مناسب در برابر تابش های RF ، دارای سنسور جریان آب و فلوکنترلر در مناسب بردن تنظیم نرخ آب خنك کننده پمپ و الکترود از جمله محاسن استفاده از این روش به شمار می آید.

بر اساس این گزارش : ناهمسانگرد و انتخابی بودن زدایش نسبت به روش های شیمیایی و بالاتر بودن سرعت زدایش نسبت به روش Plasma Etchirg از جمله مزایا استفاده از آن نسبت به نمونه های مشابه خارجی است که ضمن آن با ساخت آن دیگر نیازی به نمونه های مشابه خارجی آن نیست./ح