تولید دریچه‌ای برای بهبود کارایی سامانه‌های لایه‌نشانی اتمی
یکی از شرکت‌های تولیدکننده تجهیزات مربوط به لایه‌نشانی اتمی، دریچه‌ای برای استفاده از این سامانه‌ها تولید کرده که می‌تواند سرعت لایه‌نشانی را در این تجهیزات افزایش دهد.
به گزارش خبرنگار حوزه فناوری گروه علمی پزشكی باشگاه خبرنگاران جوان، لایه‌نشانی اتمی (ALD) یک تکنیک فاز بخار است که قادر به تولید لایه‌های نازک از مواد مختلف است. بر پایه واکنش‌های خود محدودکننده و متوالی، لایه‌نشانی اتمی یک همدیسی استثنایی در ساختار‌های با نسبت سطح بالا، کنترل پذیری ضخامت در حد آنگستروم و ترکیب فیلم تنظیم پذیر را ارائه می‌دهد. با توجه به این مزایا، لایه‌نشانی اتمی به عنوان یک ابزار قدرتمند برای بسیاری از کاربرد‌های تحقیقاتی و صنعتی شناخته شده است.
همان‌طور که نیاز به ادوات، به سمت ساختار‌های کوچک‌تر و کم حجم‌تر پیش می‌رود، لایه‌نشانی اتمی مزایای بالقوه‌ای در زمینه همدیسی و کنترل بر روی ضخامت و ترکیب مواد در مقایسه با روش‌های لایه‌نشانی جایگزین، همانند لایه‌نشانی به‌وسیله بخار شیمیایی (CVD) و تکنیک‌های مختلف لایه‌نشانی به‌وسیله بخار فیزیکی (PVD)، از خود نشان داده است. این ویژگی‌های مطلوب از ذات خود اشباع‌کننده و دوره‌ای فرآیند‌های لایه‌نشانی اتمی نشأت گرفته است.
شرکت سواگلوک (Swagelok) ارائه دهنده رهیافت‌های جدید برای سامانه‌های سیالی و لایه‌نشانی، اعلام کرد که دریچه‌های با خلوص بالا (UHP) را برای استفاده در سیستم‌های لایه‌نشانی اتمی ارائه کرده است. این دریچه‌ها برای تجهیزاتی که در آن جریان سیال یا گاز وجود دارد، قابل استفاده است.
بیشتر بخوانید: اخترشناسان از بزرگترین انفجار فضایی خبر دادند/ آیا موجودات جدیدی در زمین پدیدار می‌شوند؟
از زمانی که فناوری لایه‌نشانی اتمی به بازار عرضه شده، شرکت سواگلوک با شرکت‌های تولیدکننده ابزار‌های نیمه‌هادی و تولیدکنندگان تراشه وارد همکاری شده است تا به آن‌ها در تامین نیاز‌های خود کمک کند.
این دریچه که به ALD ۲۰ شهرت دارد، نتیجه همکاری شرکت سواگلوک با تولیدکنندگان تجهیزات است. این دریچه به این شرکت‌ها کمک می‌کند تا بتوانند طراحی بهتری را در ساخت تجهیزات تجربه کنند و در نهایت امکان ایجاد فشار بخار کم در دستگاه‌های لایه‌نشانی اتمی فراهم شود.
این فناوری که پتنت آن در حال ثبت است، کارایی فرآیند تولید را به بیشینه مقدار خود می‌رساند و یکنواختی لایه ایجاد شده را بهبود می‌دهد. این کار با دو تا سه برابر کردن ضریب جریان انجام می‌شود.
با استفاده از این فناوری می‌توان سرعت جریان را به ۱٫۲ Cv در دستگاه‌های لایه‌نشانی اتمی رایج رساند. بنابراین، کاربر می‌تواند خروجی تولید را افزایش دهد بدون این که نیاز به تغییرات اضافی در سیستم یا استفاده مجدد از سیستم باشد.
این دریچه می‌تواند در یک محفظه در بازه دمایی ۱۰ درجه سانتی‌گراد تا ۲۰۰ درجه سانتی‌گراد کار کند و موجب افزایش پایداری حرارتی و یکنواختی لایه ایجاد شده، شود. همچنین این دریچه دارای بدنه‌ای از فولاد ضدزنگ بوده که در برابر خوردگی نیز مقاوم است و می‌تواند استحکام دستگاه را در برابر ترکیبات خورنده حفظ کند.
گریک جوزف مدیر بازرگانی شرکت سواگلوک می‌گوید: ALD ۲۰ پاسخی به نیاز‌هایی است که سریع در صنعت نیمه‌هادی ایجاد می‌شوند. ما از طریق مشارکت با رهبران صنعتی و استفاده از تجربیات مهندسی خود، محصولی به بازار عرضه کرده‌ایم که به مشتریان ما امکان می‌دهد تا به‌طور موثر از پیش‌ماده‌های گازی استفاده کنند کاری که پیش از این چالش‌برانگیز بود.
انتهای پیام/
