به گزارش
خبرنگار علمی باشگاه خبرنگاران ، نئول تکنولوژیز روش جدیدی برای کاهش هزینهی نانوچاپ ارائه کرده است. این شرکت از لیتوگرافی نوری برای ایجاد الگوهای نانومقیاس استفاده کرده است.
نئول تکنولوژیز (Noel Technologies) یکی از شرکتهای فعال در سیلیکونولی اخیرا فرآیند جدیدی برای چاپ نانوساختارها معرفی کرده است که میتواند هزینهی نانوچاپ را به شدت کاهش دهد.
این شرکت همکاری نزدیکی با مشتریان فعال در حوزهی نانوچاپ دارد، بنابراین برای رفع نیاز بازار، روش جدیدی برای لایهنشانی ارائه کرده است که در آن از لیتوگرافی نوری برای ایجاد الگوهای نانومقیاس استفاده میشود که این کار موجب تولید یک استامپ جدید و کاهش هزینههای نانوچاپ میشود. نئول پیش از این از مواد مختلفی برای کاهش ساخت استامپ استفاده کرده بود و در نهایت موفق به کاهش ابعاد بحرانی (CD) به کمتر از دو میکرون شد. در این روش جدید میتوان ابعاد بحرانی حفرهها و برجستگیها را کاهش داد بهطوری که استامپی ارزانقیمت و با سرعت بالا برای نانوچاپ تولید شد.
نئول، فیلمهای غیرفعال (پَسیو) مختلفی برای کاهش ابعاد ارائه کرده است که از آن جمله میتوان به نیترید LPCVD، سیلیکون آمورف و کربن آمورف اشاره کرد.
نئول تکنولوژیز بهعنوان یکی از شرکتهای پیشرو در این حوزه روی تولید قطعات با ابعاد مختلف از 50 میلیمتر گرفته تا 300 میلیمتر کار میکند. این شرکت هم روی توسعهی زیرلایههای شفاف استاندارد و هم زیرلایههای غیراستاندارد فعالیت میکند. با افزایش هزینههای تحقیق و توسعه و همچنین کاهش درآمد، این شرکت حوزه کاری خود را اندکی تغییر داده و روی فرآیندهای ساخت متمرکز شدهاست.
انتهای پیام/